镀铬加工中的催化剂

点击次数:   更新时间:17/03/16 17:58:03     来源:www.zibozitian.com关闭分    享:
  镀铬加工的常用催化剂有硫酸根,氟化物、氟硅酸盐、氟硼酸盐以及这些阴离子的混合物。当催化剂含量过低时,得不到镀层或得到的镀层很少,主要是棕色氧化物。若催化剂过量时,会造成覆盖能力差、电流效率下降,并可能导致局部或全部没有镀层。目前应用较广泛的催化剂为硫酸。
  硫酸的含量取决于铬酐与硫酸的比值,一般控制在Cr03:So4=(80~100):1,最佳值为100:1。当So42-含量过高时,对胶体膜的溶解作用强,基体露出的面积大,真实电流密度小,阴极极化小,得到的镀层不均匀,有时发花,特别是凹处还可能露出基体金属。当生产上出现上述问题时,应根据化学分析的结果,在镀液中添加适量的碳酸钡,然后过滤去除生成的硫酸钡沉淀即可。当So42-含量过低时,镀层发灰粗糙,光泽性差。因为So42-含量太低,阴极表面上只有很少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,铬的析出受阻或在局部地区放电长大,所以得到的镀层粗糙。此时向镀液中加入适量的硫酸即可。用含氟的阴离子(F一、SiF62-、BF4-)为催化剂时,其浓度为铬酐含量的1.5%~4%,这类镀液的优点是:镀液的阴极电流效率高,镀层硬度大,使用的电流密度较低,不仅适用于挂镀,也适用于滚镀。
  我国使用较多的是氟硅酸根离子,它兼有活化镀层表面的作用,在电流中断或二次镀铬加工时,仍能得到光亮镀层,也能用于镀铬加工。一般加入H2SiF4或Na2SiF6(或K2SiF6)作为SiF62-的主要来源。含siF2一离子的镀液,随温度升高,其工作范围较So42-离子的镀液宽。该镀液的缺点是对工件、阳极、镀槽的腐蚀性大,维护要求高,所以不可能完全代替含有So42-的镀液。目前不少厂家将So42-和siF62-混合使用,效果较好。

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